لایه‌نشانی شیمیایی از فاز بخار به کمک پلاسما (PECVD) یک نوع ویژه‌ای از روش‌ لایه‌نشانی شیمیایی از فاز بخار است که در آن به کمک پلاسما همه واکنش‌های CVD تحت تاثیر قرار می‌گیرد و قادر می‌سازد که واکنش‌های فوق به صورت خیلی موثرتری در دماهای به نسبت پایین‌تری انجام شود.

استفاده از پلاسما دمای انجام واکنش‌های CVD را تا مقادیر بین 200 تا 400 درجه سانتی‌گراد کاهش می‌دهد، در حالی که دمای کاری روش‌های پیشین CVD، در حدود رنج دمایی 425 تا 900 درجه سانتی‌گراد است. ‌استفاده از پلاسما دامنه گسترش روش‌های CVD را به قدری گسترش می‌دهد که پوشش‌دهی همه مواد هادی و غیرهادی بوسیله آن امکان‌پذیر می‌شود.
ترسیم ساده شده فرآیند PECVD متشکل از موارد فوق است: یک چمبر واکنش، یک سیستم تامین گاز، یک سیستم چرخش آب، سیستم پمپ‌های خلا، یک هیتر برای گرم کردن زیرلایه و الکترود RF. مکانیزم پوشش‌دهی PECVD عبارت است از: مخلوطی از گازهای شامل پیش‌ماده پوشش ابتدا وارد چمبر واکنش می‌شود. معمولا، یک گاز خنثی نیز علاوه بر گازهای فعال استفاده می‌شود. استفاده از گاز خنثی سبب بهبود شار حرارتی مخلوط گازی می‌شود. همچنین استفاده از گاز خنثی سبب بهبود نرخ گرمایش زیرلایه و تشویق جوانه‌زنی محصولات واکنش بر روی زیرلایه می‌شود.
مهمترین قسمت PECVD الکترود RF آن است. الکترود RF مسئول ایجاد فضای پلاسما است. الکترود RF به یک منبع تغذیه RF متصل می‌شود. در مجاورت آن، یک الکترود دیگر نیز قرار داده می‌شود که از لحاظ الکتریکی به زمین متصل می‌شود. با قرارگیری این دو الکترود در روبروی هم، یک کوپل خازنی تشکیل می‌شود که با اعمال پتانسیل RF به الکترود مربوطه، سبب تحریک گازهای واکنش‌گر بین دو الکترود و تبدیل آن‌ها به پلاسما می‌شود. از آنجا که این آرایش الکترودی بسیار شبیه یک خازن در یک مدار الکتریکی است، پلاسمای شکل گرفته به کمک این آرایش، پلاسمای خازنی (Capacitive Plasma) یا پلاسمای دیودی RF (RF diode) نامیده می‌شود. بدیهی است که ولتاژ مورد نیاز برای شروع تخلیه الکتریکی بین دو الکترود ذکر شده، تابعی از فاصله بین دو الکترود و فشار گاز است. معمولا در کاربردهای صنعتی از فرکانس‌های بالایی (فرکانس استاندارد 56/13 مگاهرتز) برای تحریک و حفظ پلاسما استفاده می‌کنند.
لایه‌نشانی شیمیایی از فاز بخار یکی از مهمترین روش‌های پوشش‌دهی است که کاربرد امروزه آن هم حوزه‌های صنعتی و هم حوزه‌های تحقیقاتی را در بر گرفته است. در این میان، منحصرا روش PECVD بیشتر برای تولید نانولوله‌های کربنی (CNTs)، نانوالیاف کربنی (CNFs) و ساخت لایه‌های نازک متشکل از مواد غیرآلی استفاده می‌شود.

دستگاه لایه‌نشانی شیمیایی از فاز بخار به کمک پلاسما (PECVD) یک سیستم بسیار خاص برای ایجاد نانوساختارهای کربنی، نانولوله‌های کربنی و دیگر تولیدات نانوساختارها است. مشخصات دستگاه ساخته شده توسط تولید کننده در جدول ارائه شده است.

لایه‌نشانی شیمیایی از فاز بخار به کمک پلاسما (PECVD) یک روش بدون رقیب برای ایجاد نانولوله‌های کربنی (CNTs)، نانوالیاف کربنی (CNFs) و دیگر تولیدات پوشش‌های نانوساختار است.